韓國CN1飽和增壓器生產真空鍍膜芯片半導體

CN1有限公司是一家位于韓國工業園區的半導體和高科技設備制造公司，我們基于多年的經驗和技術，盡最大努力提供更好的設備方案服務。不只是產品，我們以信任、忠誠和責任感而成為最好。不久前，CN1得到了中期G-創業項目的支持，G-創業項目是一個支持創業的項目，指的是幫助那些擁有創新的想法和出色的技術但缺乏資金難以創業的項目。

CN1成立于2008年11月，是一家在半導體領域不斷發展的公司，并且在不斷的研發當中。我們開發了韓國主要大學和國家研究機構所需的研發用ALD設備，并因其產品優勢而受到認可，現在我們正在積極開展交付活動。

CN1是通過增加原子層來生長薄膜的新技術的創新性公司，與應用化學薄膜的傳統化學氣相沉積技術不同。而且，我們還創建了實施該技術的設備。目前，我們的ALD設備已交付給研究機構和大學。

CN1的主要業務是大學實驗室/研究機構，國家研究機構和附屬研究機構，已向首爾大學交付了20多臺沉積設備，并已交付給韓國大學，延世大學，漢陽大學。不僅如此，我們的技術還得到國家的認可，像我們提供韓國化學技術研究所，韓國機械與材料研究所和韓國基礎科學研究所，負責國家層面的研究。目前，該公司已進入美國，日本等海外市場。

鄭代表最初主修電子學，　從在90年代初加入一家外國半導體設備公司的研究所以來，進入半導體沉積設備行業很長一段時間了。一直在研究和開發半導體沉積設備，距今已有15年。

當決定創業并與我的團隊成員開展業務時，并沒有開發大量的國內ALD市場，理由是想再一定的時間內來提高產品的實力。鄭代表認為，在早期，即使在尚未開發的市場中，半導體專業設備的生產和處理領域也應該優先考慮技術，所以他將所有工作都投入到研發中，以確保技術的安全。

CN1作為一家技術公司，擁有多項專利和知識產權，并注冊了廢水處理裝置，原子層沉積法，粉末涂裝裝置和涂裝方法等專利。

該設備是ALD設備。里面是薄涂層?！∷胁考涍^手工設計和測試?！∷哂衅渌偁帉κ譄o法輕易遵循的結構，性能和功能，但其特點是價格適中。

所有這些成就都是在鄭代表和僅堅持半導體沉積設備研發外部員工的努力下完成的，CN1正在全球范圍內與國際企業競爭，我們的目標是要告訴全世界我們的技術是好的。